規(guī)格:
1. 型號(hào):HPD-2400,;
2. 電源:三相AC380V(±10%)
3. 功率:1000VA;
4. 電極尺寸:500mm×450mm,;
5. 設(shè)備尺寸:720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 設(shè)備重量:180kg
7. 腔體壓力:500~3000Pa
用途:
1. 酶標(biāo)板,、細(xì)菌計(jì)數(shù)培養(yǎng)皿、細(xì)胞培養(yǎng)皿,、組織培養(yǎng)皿的親水處理,。經(jīng)過(guò)等離子體處理后細(xì)菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細(xì)胞黏附鋪展的能力.并適用于細(xì)胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡(jiǎn)單地用滴水來(lái)驗(yàn)證,,處理過(guò)的樣品表面完全被水潤(rùn)濕,。
2. 生物芯片、人造血管,、血管支架的處理
3. 等離子清洗,、刻蝕、等離子涂覆,、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合,。通過(guò)其處理,能夠改善材料的潤(rùn)濕能力,,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆,、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力,、鍵合力,,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂,。