簡介/玻璃硅片超聲波清洗機(jī) 

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中玻璃硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗,。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效,。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物,。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面,。有機(jī)污染包括光刻膠,、有機(jī)溶劑殘留物,、合成蠟和人接觸器件、工具,、器皿帶來的油脂或纖維,。無機(jī)污染包括重金屬金、銅,、鐵,、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo),；堿金屬如鈉等,，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣,、塵埃,、細(xì)菌、微生物,、有機(jī)膠體纖維等,，會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。將超聲波清洗機(jī)應(yīng)用到玻璃硅片生產(chǎn)中,，不僅環(huán)保還提高產(chǎn)品質(zhì)量,。 

    設(shè)備特點(diǎn)/玻璃硅片超聲波清洗機(jī) 

 1.采用流行環(huán)保水基清洗工藝.該設(shè)計(jì)先進(jìn)、合理,充分考慮了環(huán)保和節(jié)能的要求,； 　 
       2.全封閉式結(jié)構(gòu),，運(yùn)行部件設(shè)計(jì)防止污染； 
       3.清洗機(jī)框架和烘干爐內(nèi)均采用正壓送風(fēng)形式, 保持運(yùn)行時(shí)的風(fēng)流始終外溢,；
       4.清洗區(qū)域與維護(hù)區(qū)域隔離開,，確保潤滑油脂及運(yùn)動(dòng)磨損不會(huì)對(duì)清洗的產(chǎn)品產(chǎn)生二次污染；
       5.有效*證工作室長期處于潔凈狀態(tài),從而*證產(chǎn)品的潔凈要求,； 　 
       6.工位移載結(jié)構(gòu)能**限度地減少輔助運(yùn)行時(shí)間,，保正工藝參數(shù)實(shí)施的準(zhǔn)確性。

    工作機(jī)理/玻璃硅片超聲波清洗機(jī) 

1.欲清洗工件放入料框內(nèi)專用固定夾內(nèi),，由人工將料框放上入料口,，等工位機(jī)械手自動(dòng)將料框送入清洗機(jī)本體，上下提升機(jī)構(gòu)依照PLC指定的程序?qū)⒘峡虬崴偷较鄳?yīng)高度位置,； 　 
      2.完成對(duì)工件的清洗,、噴淋、漂洗,、慢提拉脫水和熱風(fēng)干燥后,、送至清洗機(jī)出口，運(yùn)送到卸料臺(tái)出料,； 　 
      3.等工位機(jī)械手由氣缸橫向驅(qū)動(dòng),，直線滑軌導(dǎo)向； 　 
      4.上下提升由馬達(dá)驅(qū)動(dòng),，直線導(dǎo)軸導(dǎo)向,；慢提拉提升機(jī)構(gòu)由變頻馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，直線滑塊導(dǎo)向,； 　 
      5.上下料由上下提升機(jī)構(gòu)獨(dú)立完成,； 　 
      6.采用觸摸屏操作系統(tǒng),有手動(dòng)和自動(dòng)切換開關(guān)及有關(guān)操作按鈕，能對(duì)整個(gè)運(yùn)行過程實(shí)行控制,。

應(yīng)用范圍/玻璃硅片超聲波清洗機(jī) 

適用于硅片,、水晶、光學(xué)玻璃,、藍(lán)寶石,、陶瓷等清除被加工物表面的油污,、研磨切削液等。